1.次氯酸水對人體溫和
（和人體除菌機制相同）

一旦細菌入侵人體，嗜中性球就會代謝氧，並製造活性氧。接著以活性氧為根源，合成過氧化氫(H2O2)，並在酵素的運作下，製造次氯酸(HClO)，然後用次氯酸攻擊`細菌外膜，殺死細菌，避免細菌入侵體內組織。 Haccpper以科學方式合成除菌水，內含大量嗜中性球製造的次氯酸(HClO)，並以穩定的方式量產。

2. 次氯酸水除菌力強
（徹底清除芽孢菌，打造不會
衍生耐性菌的環境）

過去的次亞稀釋水主要成分是OCl-，透過氧化作用，造成細胞膜外側損傷以進行除菌，因此對芽孢菌的除菌效果並不完善。
次氯酸水 (HClO)為非解離型，透過小分子及電中性的性質產生自由擴散，可輕易穿透細胞膜，從內外兩側進行氧化作用，殺菌速度與除菌效果明顯優於OCl-，可有效去除芽孢菌，打造不會衍生耐性菌的環境。

3. 次氯酸水和有機物反應後，
會變成無害的水

次氯酸水在除菌時，接觸細菌和有機物便會變回普通的水，因此不會附著於食物上。即使有少許殘留，也不會像次氯酸蘇打那樣沾黏在物品上，可用清水輕鬆洗乾淨。
另外，和次氯酸蘇打相較，次氯酸水濃度低，可短時間內迅速除菌，因此不會破壞食物的味道與口感。
就算排出的廢水中有少許次氯酸殘留，也會和排水溝中的有機物反應，變回無害的水，因此不會對淨化槽中的有益微生物造成傷害。
R-H + HClO + H2O → R-OH + HCl + H2O
*鹽酸為極微量，次氯酸水中，大約只有0.5mg/L。

4.次氯酸水讓腐臭瞬間消失

會和散發腐臭的氨立刻產生化學反應，變成無臭的氯胺。
除臭最常被使用的成分是次氯酸蘇打(NaClO)，這是利用次氯酸蘇打的氧化力氧化臭味根源，將其變成無臭物質。
在消除氨臭味的過程中，藉由次氨酸蘇打的氧化力，將腐臭的氨分子轉變為無臭的氯胺。
次氯酸水(HClO)更加提升次氯酸蘇打的氧化力，除菌力不減，除臭效果提升好幾倍甚至是好幾十倍，可用更低的濃度便能發揮足夠的除臭效果。
NH3 + HClO → NH2Cl + H2O

噴霧可預防集體感染

將噴霧噴灑在空氣中，可將空氣中的細菌除去，即使沒有足夠的溼度，也能預防黴菌增殖。經過空氣除菌後，可預防空調機器（冷暖氣、空氣清淨機）堆積細菌，避免細菌擴散造成集體感染。
噴霧濃度為50ppm進行噴霧時，氯濃度會在0.01ppm以下，氯氣容許濃度只要在日本產業衛生學會勸告值1ppm或2.9mg/m3基準的1/100以下，就不會對人體造成影響。

1) 即使濃度相同，受pH高低
影響，除菌力也會不同

次亞稀釋水大約是pH8.5，殺菌力=HClO成分的10%左右，但如同右圖所示，即使濃度相同，將pH調整成5.0~6.5後和次亞稀釋水相較，殺菌力提高為原來的10倍，高達90%~100%，實現低濃度除菌的能力，提升經濟效用。
但pH在5.0以下或6.5以上時，經濟效用低，pH7.5的除菌力只有50%，效能並不佳。如此可知，HClO的濃度(ppm)大小會影響除菌力，控制pH值是非常重要的事項。
使用次氯酸濃度控制除菌力（殘留氯濃度x pH）

2) 比較除菌力

圖表顯示次氯酸與次氯酸離子將大腸菌除菌99%以上的所需時間。
氯0.1mg/L時的除菌時間
HClO: 1.5min ClO- : 120 min速度快80倍
次氯酸水大致為次氯酸稀釋濃度的1/10 pH5.0~6.5

3) 除菌力

除菌力會受HClO濃度、使用量、接觸時間等3個要素影響，因此可用充足的要素補足較不足的要素使用。
例如當接觸時間短，就可以加強濃度來補足，若想減弱濃度以減輕傷害時，則可調整使用量使用。
請依照以下算式進行調整，作為使用的基準。
除菌力=HClO(ppm)x使用量x接觸時間

4) 殘留性差異

次亞稀釋水的特徵為除菌力弱，但持續性長，因殘留量多達90%，所以需要大量的清水沖洗，造成作業上相當大的負擔。
如此一來不僅會造成堆積汙染，還會導致黏滑、二度汙染等問題，使環境受到破壞。
另一方面，次氯酸水除菌力強，且幾乎不會殘留，無須再用清水沖洗，可省去作業負擔，省水，減少堆積汙染以維護乾淨的環境。

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